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      信息描述

      真空氣相沉積設備是一種用于電子產品防水保護的鍍膜設備。工作時把含有構成薄膜元素的化合物(長鏈性高分子材料,一般為派瑞林PARYLENE)、單質氣體經過升華、熱解后進入放置產品的真空反應室,借助空間氣相化學反應, 在產品表面上沉積生成0.1-100UM的厚度均勻,無應力、優異的電絕緣性和防護性、防潮、防霉、防腐、防鹽霧的薄膜涂層。
       
      廣泛應用于:航空航天、電路板、LED 、磁性材料、傳感器、硅橡膠、密封件、---、珍貴---等領域產品的防水封裝與保護工藝中。 1.2米大直徑真空反應罐,單次鍍膜產品多, 同時能滿足大型工件的鍍膜需求。
      不銹鋼真空反應罐,結構合理,堅固---。真空管路采用不銹鋼連節,方便維護及保養。
      側開式門設計便于取放產品與腔體清潔等維護作業。
      反應罐內置---構使產品在鍍膜過程中勻速旋轉,鍍層更均勻。
      使用數位LED真空計顯示工作狀況時的真空度。
      控制系統穩定安全---。
      操作簡易,可依實際需求變換自動 /手動操作模式。
      紅外線加熱圈,加溫速度快。
      采用---溫控裝置多段控溫,溫控---。
      定時加熱、超溫報警和自動停止加熱等保護功能
      自診功能和各種故障報警。
      選配遠程控制制和手機APP功能。


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